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氟化鈣單晶體的成長

作者:時(shí)間:2019-08-28 10:52:08508 次瀏覽

近年來,由于氟化鈣(CaF2)晶體在深紫外準(zhǔn)分子激光(Deep Ultraviolet)光刻方面具有潛在的應(yīng)用前景倍受人們的關(guān)注,這主要是由于作為光刻機(jī)關(guān)鍵光學(xué)元件的石英玻璃在波長小于200nm時(shí)透過率急劇下降,且在紫外光輻照下會形成色心及折射率發(fā)生變化,從而降低光效及破壞產(chǎn)品。

 氟化鈣晶體是一種重要的光學(xué)材料,具有立方對稱性晶格,熱機(jī)性能良好。物化性能穩(wěn)定,不潮解,抗輻照損傷能力強(qiáng),透光范圍寬,在130nm 到10μm 的波長范圍內(nèi)透光性能良好,應(yīng)力雙折射低(在200nm 以上無明顯本征雙折射),及折射率均勻高。

在自然界氟化鈣以螢石礦形式存在,因此,氟化鈣早已引起人們的關(guān)注,甚至在第一次世界大戰(zhàn)前后,就被用于制造顯微鏡和照相機(jī)鏡頭。隨著真空坩堝下降法(Bridgman-Stockbarger)的采用,加之生長和加工技術(shù)的成熟和完善,大尺寸氟化鈣晶體成為可批量生產(chǎn)的產(chǎn)品。其應(yīng)用范圍變得更加廣泛,如光譜分光系統(tǒng)、高級攝象機(jī)、望遠(yuǎn)鏡及其他光學(xué)儀器中的棱鏡透鏡和窗口等;摻雜的氟化鈣還可以用做γ射線閃爍體,應(yīng)用于高能物理、核物理研究。 

 國際上,以肖特(SCHOTT)、康寧(CORNING)和貝克朗(BICRON)為代表的德國和美國公司在氟化鈣晶體研制和產(chǎn)業(yè)化水平上處于領(lǐng)先地位,肖特公司已經(jīng)成功地生長出直徑達(dá)到350mm 的氟化鈣單晶。

在國內(nèi),從事氟化鈣研發(fā)、生產(chǎn)的單位主要有北京玻璃研究院、北京人工晶體研究所、中科院長春精密光學(xué)機(jī)械研究所和上海硅酸鹽研究所等單位。所生長的氟化鈣晶體直徑可以達(dá)到200mm,但是晶體光學(xué)質(zhì)量和單晶獲得率還有待進(jìn)一步提高。 針對紫外光學(xué)系統(tǒng),特別是大功率準(zhǔn)分子激光系統(tǒng)的特殊需求,研制大截面、高質(zhì)量氟化鈣單晶材料已成為當(dāng)務(wù)之急。

在研究過程中發(fā)現(xiàn)大尺寸氟化鈣單晶地生長需要重點(diǎn)解決生長爐及溫場設(shè)計(jì)、原料提純和生長工藝優(yōu)化三大關(guān)鍵難題。 在大尺寸氟化鈣單晶的生長研究中晶體生長參數(shù)的選擇尤其重要,晶體生長參數(shù)是指那些可以直接調(diào)控的設(shè)置,例如加熱器功率、坩堝下降速率或降溫速率、坩堝幾何形狀、晶體/坩堝轉(zhuǎn)動(dòng)速率、氣流、磁場等。這些參數(shù)的組合即形成晶體生長的外部環(huán)境。如何形成所期待的晶體生長環(huán)境是生長過程模型需要解決的問題。通過引進(jìn)的計(jì)算機(jī)模擬軟件CrysVUN 對大尺寸氟化鈣晶體的生長環(huán)境進(jìn)行了數(shù)字模擬。可以準(zhǔn)確地、定量地預(yù)測一定的晶體生長參數(shù)下,晶體生長過程的熱量甚至是物質(zhì)的連續(xù)輸運(yùn)方程,建立合適大尺寸氟化鈣晶體生長的溫場環(huán)境。 

 通過原料提純和預(yù)處理工藝,提高了氟化鈣原料純度。并采用改進(jìn)的布里奇曼生長技術(shù),利用真空石墨坩堝下降爐作為主要生長設(shè)備,通過優(yōu)化生長工藝成功地實(shí)現(xiàn)了直徑達(dá)到300mm 氟化鈣單晶的生長。所生長的氟化鈣單晶的透光范圍為0.13~10μm,且在248nm光學(xué)透過率不高于88%(2mm 厚晶體);應(yīng)力雙折射低于10nm/cm;光學(xué)均勻性達(dá)到6×10-6以上。 

 近年來,由于氟化鈣(CaF2)晶體在深紫外準(zhǔn)分子激光(Deep Ultraviolet)光刻方面具有潛在的應(yīng)用前景而倍受人們的關(guān)注。這主要是由于作為光刻機(jī)關(guān)鍵光學(xué)元件的石英玻璃在波長小于200nm時(shí)透過率急劇下降,且在紫外光輻照下會形成色心及折射率發(fā)生變化,從而降低光效及破壞產(chǎn)品。 氟

化鈣晶體是一種重要的光學(xué)材料,具有立方對稱性晶格,熱機(jī)性能良好。物化性能穩(wěn)定,不潮解,抗輻照損傷能力強(qiáng),透光范圍寬,在130nm 到10μm 的波長范圍內(nèi)透光性能良好,應(yīng)力雙折射低(在200nm 以上無明顯本征雙折射),及折射率均勻高。在自然界氟化鈣以螢石礦形式存在,因此,氟化鈣早已引起人們的關(guān)注,甚至在第一次世界大戰(zhàn)前后,就被用于制造顯微鏡和照相機(jī)鏡頭。隨著真空坩堝下降法(Bridgman-Stockbarger)的采用,加之生長和加工技術(shù)的成熟和完善,大尺寸氟化鈣晶體成為可批量生產(chǎn)的產(chǎn)品。其應(yīng)用范圍變得更加廣泛,如光譜分光系統(tǒng)、高級攝象機(jī)、望遠(yuǎn)鏡及其他光學(xué)儀器中的棱鏡、透鏡和窗口等;摻雜的氟化鈣還可以用做γ射線閃爍體,應(yīng)用于高能物理、核物理研究。 

 國際上,以肖特(SCHOTT)、康寧(CORNING)和貝克朗(BICRON)為代表的德國和美國公司在氟化鈣晶體研制和產(chǎn)業(yè)化水平上處于領(lǐng)先地位,肖特公司已經(jīng)成功地生長出直徑達(dá)到350mm 的氟化鈣單晶[1]。在國內(nèi),從事氟化鈣研發(fā)、生產(chǎn)的單位主要有北京玻璃研究院、北京人工晶體研究所、中科院長春精密光學(xué)機(jī)械研究所和上海硅酸鹽研究所等單位。所生長的氟化鈣晶體直徑可以達(dá)到200mm,但是晶體光學(xué)質(zhì)量和單晶獲得率還有待進(jìn)一步提高。 針對紫外光學(xué)系統(tǒng),特別是大功率準(zhǔn)分子激光系統(tǒng)的特殊需求,研制大截面、高質(zhì)量氟化鈣單晶材料已成為當(dāng)務(wù)之急。在研究過程中發(fā)現(xiàn)大尺寸氟化鈣單晶地生長需要重點(diǎn)解決生長爐及溫場設(shè)計(jì)、原料提純和生長工藝優(yōu)化三大關(guān)鍵難題。 在大尺寸氟化鈣單晶的生長研究中晶體生長參數(shù)的選擇尤其重要,晶體生長參數(shù)是指那些可以直接調(diào)控的設(shè)置,例如加熱器功率、坩堝下降速率或降溫速率、坩堝幾何形狀、晶體/坩堝轉(zhuǎn)動(dòng)速率、氣流、磁場等。這些參數(shù)的組合即形成晶體生長的外部環(huán)境。如何形成所期待的晶體生長環(huán)境是生長過程模型需要解決的問題。通過引進(jìn)的計(jì)算機(jī)模擬軟件CrysVUN 對大尺寸氟化鈣晶體的生長環(huán)境進(jìn)行了數(shù)字模擬??梢詼?zhǔn)確地、定量地預(yù)測一定的晶體生長參數(shù)下,晶體生長過程的熱量甚至是物質(zhì)的連續(xù)輸運(yùn)方程,建立合適大尺寸氟化鈣晶體生長的溫場環(huán)境。 通過原料提純和預(yù)處理工藝,提高了氟化鈣原料純度。并采用改進(jìn)的布里奇曼生長技術(shù),利用真空石墨坩堝下降爐作為主要生長設(shè)備,通過優(yōu)化生長工藝成功地實(shí)現(xiàn)了直徑達(dá)到300mm 氟化鈣單晶的生長。所生長的氟化鈣單晶的透光范圍為0.13~10μm,且在248nm光學(xué)透過率不高于88%(2mm 厚晶體);應(yīng)力雙折射低于10nm/cm;光學(xué)均勻性達(dá)到6×10-6以上。